Ионная бомбардировка

ИОННАЯ БОМБАРДИРОВКА, облучение поверхности твёрдого тела ускоренными ионами, приводящее к возникновению множественных вторичных процессов. Основными вторичными процессами являются: рассеяние первичных частиц с возможностью изменения их зарядовых и возбуждённых состояний, проникновение первичных частиц вглубь твёрдого тела (ионная имплантация), эмиссия различных частиц с поверхности твёрдого тела (распыление, ионно-ионная эмиссия, ионно-электронная эмиссия, ионно-стимулированная десорбция, ионно-фотонная эмиссия) за счёт энергии первичной частицы (потенциальной и кинетической). Также часто наблюдается изменение структуры и рельефа поверхности.

Ионная бомбардировка наблюдается как в естественных (например, ионная бомбардировка искусственных спутников Земли), так и в лабораторных условиях (например, в электромагнитных разделителях изотопов).

Лит.: Распыление твердых тел ионной бомбардировкой / Под редакцией Р. Бериша. М., 1984. Вып. 1.