Ионно-ионная эмиссия

ИОННО-ИОННАЯ ЭМИССИЯ (вторичная ионная эмиссия), эмиссия (испускание) ионов твёрдыми телами при ионной бомбардировке их поверхности. Испускаемые ионы, в том числе многозарядные, могут быть как положительными, так и отрицательными, в основном и возбуждённом состояниях. В результате передачи частицам поверхности кинетической энергии и импульса от первичных бомбардирующих ионов происходит распыление твёрдого тела. При эмиссии атомных частиц за счёт электронно-обменных процессов формируется зарядовое состояние эмитируемой частицы. Обычно доля ионов в общем потоке распылённых частиц незначительна (10-2-10-6). Ионно-ионная эмиссия исключительно чувствительна к состоянию поверхности; например, адсорбция кислорода на поверхности металлов может увеличить выход вторичных положительных ионов в 100-1000 раз. Ионно-ионная эмиссия лежит в основе вторичной ионной масс-спектрометрии (ВИМС) - самого чувствительного метода анализа состава поверхности (относительная чувствительность до 10-9), широко используемого в микро и наноэлектронике, материаловедении и др.

Лит.: Электронная и ионная спектроскопия твердых тел. М., 1981; Распыление твердых тел ионной бомбардировкой / Под редакцией Р. Бериша. М., 1998. Вып. 3.

И. Ф. Уразгильдин.

Связанные статьи